本文从以下几个角度介绍。
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1、2024国考1号4理综答案
2、国考卷1号2024
3、2024年国考一号10
4、2024国考1号3理综
5、2024年国考1号3
6、2024国考1号2
7、国考一号10理综答案2024
8、2024国考1号12
9、国考一号2024理综答案
10、2024年国考1号试卷
2024届高三阶段性考试(七)7理科综合试题)
称取粗产品mg,先将其转化为C。,并加入少量硫酸抑制水解，再加人足量的KⅪ溶液，最后用6nml·LNaS,0标准液滴定，消耗标准溶液VnmL。(已知：l,+2S,0g—2I+S40%)。(5)产品环烷酸钴的纯度为(用含b、V、M、m的式子表示)。(6)实验过程中，下列操作会导致所测纯度偏小的是填字母)a.粗产品中存在(RCO0),Cob.用于抑制水解的酸加入过多。.使用的KI溶液在空气中久置,盛装标准液的碱式滴定管滴定前有气泡，滴定后无气泡27.(14分)半导体芯片行业是金属靶材的主要应用领域之一，利用镍铂靶材废料（主要成分为47.2%Ni、49.8%Pt以及微量F©、A1的单质)采用选择性溶解法回收铂并制备硫酸镍晶体(NS0,·7H,0)的一种工艺流程如图：Fe tNH.CI稀硫酸溶液A()镍铂靶材废料酸浸滤渣①溶解沉铂操作虹NH)2P+Cl煅烧海绵铂P装滤液①NaOH溶液H202转化调pH滤液②控制pH溶液硫酸镍浓缩结晶>晶体滤渣②请回答下列问题：(1)“酸浸”时加快反应速率的措施有答一条)，“酸浸”会产生一种可燃气体，它是(填化学式)：(2)“溶解”时发生的离子反应方程式为订(3)“滤液①”中含有的金属离子为填离子符号)。(4)已知室温下：Kp[A1(0H)3]=4×10-,K,[Fe(0H)3]=4×10-38,K,[Ni(0H)2]=2×105室温下“调pH”时，最先生成的沉淀是OH)(填化学式)，“调pH结束后，溶液中c(N)=0.2mol,L1,此时溶液的pH最大为(5)沉角过程中，(NH,)2PtC1。的沉淀率随温度的升高而增大，结合衡移动原理解释(NH,)2PCL,沉淀率随温度变化的主要原因(6)“操作”中包括过滤及沉淀的洗涤，洗涤沉淀时最好选用下列哪种试剂填字母)。A.蒸馏水线B,浓盐酸C,饱和氯化铵溶液D.王水(7)某工厂用1t该镍铂靶材废料进行上述工艺流程，最终制得硫酸镍晶体2135.6kg,则镍的损耗率为28(16分)党的二十大报告提出：积极稳妥推进碳达峰，碳中和，坚持先立后破，有计划、分步骤实施碳达峰行动。实现C0,的有效转化成为科研工作者的研究热点，以下是几种常见的C0,利用方法：I,研究发现，一定条件下C0,加氢可制备甲酸(HC00H)。勉县高三理综第二次模拟考试-9-（共16页）
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